Печь для очистки VGCF и печь для CVD-роста
Химическоегазовоеосаждение(CVD),уплотнениеметодомCVD,осаждение,углеродноеосаждение,газовоеосаждение
Мы свяжемся с Вами в течении 1 часа!
Применение
Контролируемый процесс разложения одного или нескольких источников углерода при высокой температуре, вводимых в предварительно формированный заготовок. В ходе длительного термического обработки углерод постепенно осаживается в промежутках и постепенно превращается в более крупные кристаллы графита, образуя высокопрочный углерод-углеродный композит с укреплением углеродными волокнами.
Химический распад в газовой фазе (CVD-печь) - это устройство, используемое для образования твердого осадка на поверхности целевого материала путем нагрева и газификации металлических галогенидов, металлоорганических соединений, углеводородов и т. д. при определенном давлении. Это широко применяется для очистки материалов, разработки новых кристаллов, осаждения различных монокристаллов, поликристаллических или стеклянных неорганических тонких пленок.
Характеристики
Может точно контролировать поток и давление газа, стабильный поток осаждения в топке, небольшие флуктуации давления; многоканальные осаждения газовых трактов, равномерное распределение потока, отсутствие мертвых зон осаждения, эффективные результаты осаждения; способен эффективно обрабатывать высококоррозионные отходы, легковоспламеняющиеся газы, твердые частицы и продукты с низкой температурой плавления, которые образуются в процессе осаждения; использует антикоррозионный вакуумный блок, обеспечивает долгий срок службы и низкий коэффициент технического обслуживания.
