+86 182-7301-4690

Бесплатная консультация

Главная: Печь для очистки VGCF и печь для CVD-роста > Печь для химического осаждения (CVD) углеродных нанотрубок {}

Применение

Специально разработанные наночастицы железа, работающие при высоких температурах (900-1100 °C) и определенном вакуумном давлении. Вводятся источники углерода, такие как ацетилен, метан, природный газ, и контролируется направление потока газа и время пребывания в реакторе, чтобы получить высококачественные углеродные нанотрубки с управляемыми диаметром и длиной.


Химический распад в газовой фазе (CVD-печь) - это устройство, используемое для образования твердого осадка на поверхности целевого материала путем нагрева и газификации металлических галогенидов, металлоорганических соединений, углеводородов и т. д. при определенном давлении. Это широко применяется для очистки материалов, разработки новых кристаллов, осаждения различных монокристаллов, поликристаллических или стеклянных неорганических тонких пленок.

Задавайте вопросы онлайн:

задайте свой вопрос и получите на него ответ в течение одного рабочих дней。

Ваше имя (обязательно):

Ваш номер телефона (обязательно):

Электронная почта (обязательно):

Твои ожидания: