Печь для очистки VGCF и печь для CVD-роста

Бесплатная консультация и способ доставки

Ваш менеджер

E-Mail：cx381@chenxinzz.com

Мы всегда рады приветствовать Вас в нашей компании， Мы можем составить маршрут，Мы можем встретить вас в аэропорту, Мы забронироваем для вас в хорошем отеле.

CVDалмазныепленки,алмазныепленки,горячеенитьевоехимическоегазовоеосаждение,расстояниемеждугорячейнитьюиподложкой,наноалмазноегазовоеосаждение,алмазноепокрытие,расстояниемеждунитьюиподложкой,HFCVD

Обратная связь

Мы свяжемся с Вами в течении 1 часа!

Химический распад в газовой фазе (CVD-печь) - это устройство, используемое для образования твердого осадка на поверхности целевого материала путем нагрева и газификации металлических галогенидов, металлоорганических соединений, углеводородов и т. д. при определенном давлении. Это широко применяется для очистки материалов, разработки новых кристаллов, осаждения различных монокристаллов, поликристаллических или стеклянных неорганических тонких пленок.